Cuno BetaPure CMP

3M Betapure CMP-serie filter

3M ™ Betapure ™ CMP filterpatronen en capsules, voorheen CUNO Optima CMP, hoge capaciteit dieptefilters geoptimaliseerd voor oxide en metaal slurries in chemische mechanische planarisation (CMP) toepassingen.
Betapure CMP filters zijn samengesteld uit alle-polypropyleen onderdelen en is voorzien van een multi-zone "gradedporosity" ontwerp voor het optimale niveau van deeltjes-classificatie.
Deze constructie zorgt voor een verbeterde stroming kenmerken, met inbegrip van lage drukval om afschuiven van de slurry te minimaliseren en biedt een superieure levensduur.
De filtratie van CMP slurries is een ingewikkeld proces in vergelijking met de filtratie van zeer zuivere chemicaliën gebruikt in de elektronica industrie. Hoge zuiverheid chemische filtratie wordt meestal uitgevoerd met behulp van 0,2 micron of strakker membraanfilters die een scherpe deeltjes verwijderen cut-off bij de nominale poriegrootte hebben.
De meeste CMP slurries bevatten een gewenste gemiddelde deeltjesgrootte die varieert 0,03-0,2 micron.
Bijgevolg zou het filter dat speciaal is ontworpen voor deeltje verduidelijking van hoogzuivere chemicaliën ontdoen van de gewenste deeltjes en de negatieve invloed op het polijsten kenmerken van de CMP slurry.

Kenmerken en voordelen

• Superieure verwijdering van harde en zachte gel verontreinigingen, voor minder defectiviteit en verbetering van het rendement
• Hoge verontreiniging met capaciteit reduceert downtime en verhoogt de overall equipment effectiveness
• De i lters worden "afgestemd" om de slurry die de optimale prestatieniveau nodig gebrek dat deeltjes drastisch verminderen
• Biedt een lage drukval waardoor het risico van l uid afschuiving van de slurry
• Lage capsule extraheerbare, vrij van lijm, bindmiddelen en oppervlakteactieve stoffen
• Uitstekende chemische bestendigheid tegen lage en hoge pH slurries
• ISO certii ed kwaliteitsmanagementsysteem
• Vervaardigd en dubbel verpakt in een schone omgeving om superieure stroomafwaarts netheid te bieden uit de verpakking
• Zorgt voor een constante kwaliteit van drijfmest waardoor herhaalbaarheid van de planarization proces
• snelle installatie
• minder stilstand
• Verminderde overslag van gevaarlijke chemische stoffen

Bedrijfsvoorwaarden

• Maximale temperatuur 60 ° C (140 ° F)
• Het maximum drukverschil 5,2 bar (75 psi)

Typische toepassingen

• halfgeleider
• gegevensopslag
• datatransmissie
• samengestelde halfgeleider

De gegevens kunnen gewijzigd worden zonder nadere aankondiging.